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說(shuō)起防偽產(chǎn)品，pet高光膜加工包裝，我們都是陌生的，因?yàn)橐胝嬲牧私夥纻萎a(chǎn)品，沒(méi)有3-5年的時(shí)間，是很難領(lǐng)悟到防偽的精髓的，在眾多的防偽產(chǎn)品中，鐳射防偽標(biāo)簽是不同于其他防偽標(biāo)簽的，由于這種防偽標(biāo)簽選用的材料與其他的產(chǎn)品有所不同，導(dǎo)致這種產(chǎn)品有其自身的特色。
鐳射膜的特色
鐳射膜是具有煙用高光澤，全息層都賦予膜極好的抗靜電，防粘連性和上機(jī)適應(yīng)性是十分高的。還耐油墨腐蝕，隔絕水汽，二氧化碳等才能很高。所固有的香氣，有很強(qiáng)的防偽性，十分的漂亮、綠色、環(huán)保的。顏色是多彩、單一，有單一的彩虹、多種彩虹色、真彩色、是非等，而圖畫(huà)也有二維、三維、多重和動(dòng)態(tài)成像的。
真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動(dòng)能量超過(guò)表面的束縛能，崇陽(yáng)pet高光膜，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場(chǎng)的作用下的高速運(yùn)動(dòng)轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來(lái)而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。
真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法，其優(yōu)點(diǎn)是加熱源的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，造價(jià)低廉，操作方便；缺點(diǎn)是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點(diǎn)。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對(duì)被轟擊材料加熱，電子束的動(dòng)能變成熱能，使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源，pet高光膜批發(fā)價(jià)格，但由于大功率激光器的造價(jià)很高，目前只能在少數(shù)研究性實(shí)驗(yàn)室中使用。
濺射技術(shù)與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同?！盀R射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài)，常稱(chēng)為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因?yàn)殡x子在電場(chǎng)下易于加速獲得所需要?jiǎng)幽?，pet高光膜多少錢(qián)批發(fā)，因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過(guò)程建立在輝光放電的基礎(chǔ)上，即濺射離子都來(lái)源于氣體放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電；三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電；射頻濺射是利用射頻輝光放電；磁控濺射是利用環(huán)狀磁場(chǎng)控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比，有許多優(yōu)點(diǎn)。如任何物質(zhì)均可以濺射，尤其是高熔點(diǎn)，低蒸氣壓的元素和化合物；濺射膜與基板之間的附著性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重復(fù)性好等。缺點(diǎn)是設(shè)備比較復(fù)雜，需要高壓裝置。此外，將蒸發(fā)法與濺射法相結(jié)合，即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是得到的膜與基板間有極強(qiáng)的附著力，有較高的沉積速率，膜的密度高。
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